水冷拋光機最佳使用方法 | ||
[ 發(fā)布時間:2018/8/10 閱讀:1833次 來源:管理員 ] | ||
水冷拋光機包括底座、7906、拋光布、拋光蓋和蓋的基本組成部分。電機固定在底座上,固定盤與電機軸連接。拋光織物通過對研磨盤電機通過電源開關的基礎開始后緊固套圈,對樣品施加的壓力在拋光盤拋光旋轉可用手。拋光過程中加入的拋光液通過固定在塑料排水管底板在水下拋光機的方盤。拋光罩和蓋可以防止拋光織物上的灰塵和其它雜物,而不在使用時的效果。 水冷式拋光機操作的關鍵是要盡量獲得最大的拋光速度,以便盡可能快地去除損壞的層。同時,它也是為了使拋光損傷層不會影響最終觀察組織,即不會造成假組織。前者要求采用粗磨粒,以保證拋光速度有較大的去除,但拋光損傷層較深;后者則要求使用最優(yōu)質的材料,使拋光損傷層較淺,但拋光率低。解決這個問題的最好辦法就是把拋光分為2個階段。粗拋光的目的是去除拋光損傷層,這一階段應具有最大的拋光速率,表面損傷是次要考慮,但也應盡可能;二是拋(或結束),目的是去除表面損傷,使拋光損害最小。 當水冷拋光機時,磨面和拋光盤應絕對平行,并均勻地輕壓在拋光盤上,注意防止試樣飛出,壓力過大,產(chǎn)生新的磨削痕跡。同時,要避免在織物上的局部磨損,在旋轉的旋轉輪和半徑的移動。濕度太過一般會削弱拋光磨痕和試樣在硬質相顯示浮雕和鋼中的非金屬夾雜物在鋼和鑄鐵石墨相“尾隨”現(xiàn)象;濕度過小,由于摩擦熱會使樣品溫度,減少潤滑,研磨失去光澤,甚至點,輕合金會傷害表面拋光。 為了達到粗拋的目的,轉盤的速度要求較低,最好不要超過500r/min;拋光時間應當比去掉劃痕的時間更長,因為它也有必要消除變形層。經(jīng)過水冷拋光機的打磨光,但在顯微鏡下用強烈的黑暗無光,穿上均勻,拋光被淘汰。精細拋光適當增加速度刻度盤,拋光時間,以除去損壞的粗糙拋光層是適當?shù)摹=?jīng)過精磨拋光后,它就亮如鏡,在明場顯微鏡下的情況下看不到劃痕,但在對比的照明條件下,仍能看到磨痕。 |
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